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臺積電:3nm良率領先業界 很快比肩5nm
三星電子4納米工藝良率接近臺積電
臺積電3nm良率接近63%,三星4nm良率約70%
三星4nm制程良率穩定化 開始提供MPW服務
韓企研發出石墨烯EUV光罩保護膜,能大幅度提高5nm芯片良率
半導體檢測量測設備行業研究:芯片良率守護者,短板突破正當時
蘋果推印度制造再遭重擊,良率僅有50%,中國制造無可替代
韓企研發出石墨烯EUV光罩保護膜,能大幅度提高5nm芯片良率
芯片制造環節良率漸受考驗,人工智能技術強勢出擊
三星羨慕嫉妒恨,臺積電3nm工藝,良率高達80%
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