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阿斯麥和IMEC聯合光刻實驗室啟用:最早2025年大量生產High NA EUV
ASML和IMEC合力推進high-NA EUV光刻技術試驗線
Imec放出半導體技術未來路線圖,牢牢抓住兩個關鍵詞
Imec 推永續半導體研究計劃,微軟、ASML 等巨頭加入
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將芯片節點縮小至 1nm 以下:彭博社對話 IMEC CEO
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