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晶圓制造產能擴張,電子特氣面臨供應吃緊風險

2022-06-21 來源:互聯(lián)網
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關鍵詞: 晶圓 電子特氣

據商業(yè)和技術資訊電子材料咨詢機構《TECHCET》報告顯示,2021 年全球電子特氣市場營收達63 億美元,預計2022 年將再成長8%,到2026 年年復合成長率高達9%。增長的主要原因歸功于半導體產業(yè)對于電子特氣的需求。隨著先進邏輯芯片和新世代存儲芯片需求不斷增加,蝕刻、沉積、真空腔室清潔及其他應用的特種氣體需求將越來越多。


 


近期,近期氦、氖等關鍵工業(yè)氣體有供應問題,長遠看隨著產業(yè)需求增加,三氟化氮(NF3)、六氟化鎢(WF6) 等氣體供需平衡可能逐漸改變。另外,俄烏沖突使工業(yè)氣體供應也面臨壓力,俄羅斯的氦氣和稀有氣體出口禁令將延長,造成氦和氖等稀有氣體供應短缺。俄烏沖突只是氦、氖短缺問題部分原因,還有設備維護、運輸物流、其他氦氣產區(qū)供應分配等都加劇供應鏈吃緊。


近幾年內新半導體工廠全球設立投產相對有限,除了氦氣與氖氣,乙硼烷(B2H6)、六氟化鎢(WF6)、三氟化氮(NF3)、四氟化碳(CF) 等都可能出現(xiàn)供應壓力,因為預計需求增長將超過供應量。半導體制造提高晶圓廠生產能力,對光罩至關重要的乙硼烷(B2H6) 需求也快速增加。


更多CVD / ALD 沉積技術過程添加多圖形化和EUV 微影曝光,使清潔需求也在增加。報告表示真空腔室清潔用三氟化氮快速成長,預測需求可能超過供應,導致2025~2026 年三氟化氮供應將吃緊。

報告預計,六氟化鎢也可能會在2025~2026 年出現(xiàn)供應問題,因NAND Flash 正往更高堆疊術發(fā)展,鎢對源極接觸、汲極接觸之金屬填充、金屬閘極填充及閘極接觸都是必需材料。不過以鉬(Mo) 取代鎢(W) 有可能性,有機會避免六氟化鎢短缺問題。



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