2022年全球CVD設備市場規(guī)模及結構預測分析（圖）
關鍵詞： CVD設備
中商情報網(wǎng)訊：CVD（化學氣相沉積），指把含有構成薄膜元素的氣態(tài)反應劑或液態(tài)反應劑的蒸氣及反應所需其它氣體引入反應室，在襯底表面發(fā)生化學反應生成薄膜的過程。在大規(guī)模集成電路中很多薄膜都是采用CVD方法制備。經(jīng)過CVD處理后，表面處理膜密著性約提高30%，防止高強力鋼的彎曲，拉伸等成形時產(chǎn)生的刮痕。
市場規(guī)模
2019年受下游需求下降整體半導體景氣度下降影響，CVD設備需求出現(xiàn)較大幅度下滑，2020年以來5G帶動智能手機需求回暖，整體半導體設備產(chǎn)業(yè)需求回升，2020年CVD設備規(guī)模達85億美元。隨著汽車電子和物聯(lián)網(wǎng)整體持續(xù)發(fā)展，半導體需求持續(xù)提升，預計2022年市場規(guī)模將達到96億美元。
數(shù)據(jù)來源：中商產(chǎn)業(yè)研究院整理
市場結構
目前PECVD占比最多，達46.9%，PECVD設備在相對較低的反應溫度下形成高致密度、高性能薄膜，不破壞已有薄膜和已形成的底層電路，實現(xiàn)更快的薄膜沉積速度；ALD也隨著先進制程需求持續(xù)增長占比有所提升，目前達17.7%左右。其次分別為LPCVD、APCVD、MOCVD，占比分別為15.6%、14.6%、5.2%。
數(shù)據(jù)來源：中商產(chǎn)業(yè)研究院整理
