如果中國研發(fā)出28nm光刻機(jī)，美國的芯片禁令，將被瓦解

近日，有媒體報(bào)道稱，國產(chǎn)28nm光刻機(jī)即將制造出來，并且是浸潤式光刻機(jī)。

一時(shí)之間，網(wǎng)友們沸騰了，因?yàn)檫@個(gè)消息實(shí)在太震撼了，要知道目前光刻機(jī)已經(jīng)是國產(chǎn)芯片產(chǎn)業(yè)鏈中，最短的短板了。

而美國針對(duì)中國的禁令，也是以光刻機(jī)為主，卡住14nm及以下的光刻機(jī)及所有先進(jìn)設(shè)備。

而浸潤式光刻機(jī)，雖然也屬于DUV光刻機(jī)的一種，經(jīng)多重曝光之后，卻最高可以生產(chǎn)7nm的芯片，你說讓不讓人激動(dòng)？讓不讓沸騰？

幾年前，中芯國際的梁孟松就表示，7nm芯片研發(fā)已經(jīng)準(zhǔn)備好，只等光刻機(jī)，如今假如有了28nm的光刻機(jī)，這一切不是迎刃而解了么？

可以說，有了這臺(tái)28nm的光刻機(jī)，那么美國的芯片禁令，都會(huì)因此而瓦解，因?yàn)樵籴槍?duì)14nm工藝，可能都沒什么意義了。

當(dāng)然，這則消息的真假未知，可能是真的，也可能是假的。

為何這么說？我們知道光刻機(jī)有三大件，分別是光源系統(tǒng)、物鏡系統(tǒng)、工作臺(tái)。

DUV光刻機(jī)的光源系統(tǒng)是一樣的，都是采用193nm的紫外線，這一塊，中國已經(jīng)掌握了技術(shù)，因?yàn)?0nm的光刻機(jī)，與28nm的光刻機(jī)，光源系統(tǒng)區(qū)別不是特別大。

工作臺(tái)這一塊，其實(shí)差別也不大，目前國內(nèi)的華卓精科有雙工作臺(tái)技術(shù)，也被國產(chǎn)光刻機(jī)使用。

物鏡系統(tǒng)就差別大了，物鏡系統(tǒng)是指收集光線，使其具有可控的方向性，同時(shí)將這些光線，按照要求，投射到工作臺(tái)上。

浸潤式光刻機(jī)，要在晶圓上方加一層水，然后193nm的光線，經(jīng)過水的折射后，變成等效134nm波長，所以物鏡系統(tǒng)與干式光刻機(jī)不一樣。

浸潤式光刻機(jī)的物鏡系統(tǒng)非常復(fù)雜，甚至可以說是光刻機(jī)中最昂貴最復(fù)雜的部件之一，涵蓋了光學(xué)、機(jī)械、計(jì)算機(jī)、電子學(xué)等多個(gè)學(xué)科領(lǐng)域最前沿。

而目前能夠制造浸潤式光刻機(jī)的廠商，就兩家，一家是ASML，一家是尼康。目前能夠制造浸潤式光刻機(jī)物鏡系統(tǒng)的，全球僅一家，那就是蔡司。

而ASML和尼康這兩家的浸潤式物鏡系統(tǒng)來源，均是蔡司。按照媒體的說法，浸潤式光刻機(jī)不僅要控制物鏡波像差，更要全面控制物鏡系統(tǒng)的偏振像差，全球僅有蔡司有這技術(shù)。

而蔡司與ASML關(guān)于物鏡系統(tǒng)是合作研發(fā)，雙方有協(xié)議的，蔡司不能將這些技術(shù)，提供給ASML不允許的任何第三方廠商，而尼康獲得這個(gè)技術(shù)是ASML許可的。

所以國產(chǎn)光刻機(jī)廠商，能不能掌握這個(gè)浸潤式光刻機(jī)的鏡鏡系統(tǒng)，很多網(wǎng)友是持懷疑態(tài)度的，覺得可能消息是假。

但現(xiàn)在已經(jīng)是8月份了，離年底也就4個(gè)多月時(shí)間，那么就讓我們拭目以待吧，如果真的28nm光刻機(jī)制造出來，芯片禁令就不用怕了。