英特爾1.4nm芯片工藝問世！從 14nm 到 14A，英特爾反超臺積電

英特爾近日發布了1.4nm工藝的首秀，這個突破性的技術再次將英特爾推向了全球晶圓代工技術的前沿。

英特爾近年來在芯片制造工藝上經歷了一些挫折，曾經的技術路線誤判導致制程落后，讓競爭對手如臺積電和三星等逐漸擴大市場份額。然而，英特爾并未放棄追趕的努力，而是通過轉型和計劃，加速技術進步，以重新確立自己在全球晶圓代工技術的領導地位。最新的1.4nm工藝的推出，標志著英特爾在晶圓代工領域的巨大突破。

根據報道，14A工藝將帶來更高的性能和更低的能耗，為未來的芯片制造提供了更強大的支持。在Intel Foundry Direct Connect大會上，英特爾首席執行官帕特·基辛格透露了英特爾的最新代工進展，涉及到1.4納米制程、新的客戶合作和代工模式，同時表達了對2030年成為全球第二大代工廠的雄心壯志。英特爾首次公布了14A制程以及其演進版本14A-E。


1、擴展「四年計劃」，英特爾工藝路線圖再刷新

按照基辛格在 2021 年制定的計劃，英特爾將在 4 年內更新 5 個工藝節點。在 Intel 7 之后，Intel 4 已經在最新的酷睿 Ultra 移動處理器上落地，官方宣稱其代表著英特爾 40 年來最重大的架構變革。

另一邊，Intel 3（名義上是 3nm）已經準備就緒，英特爾去年 7 月就宣布了 Intel 3 工藝在產能和性能方面達標，將于 2024 年發布的兩款至強處理器——Granite Rapids 和 Sierra Forest（分屬 P-Core 和 E-Core 產品線）都將采用 Intel 3 工藝進行制造。

作為英特爾的第一個大批量 EUV（極紫外）節點，Intel 3 還將在未來幾年推出不同版本，包括將于今年推出支持硅通孔（TSV）的 Intel 3-T、將于 2025 年推出功能擴展的 Intel 3-E 以及更之后基于第二代 TSV 技術帶來更高性能的 Intel 3-PT。

再之后，英特爾還將陸續正式推出采用 PowerVia 背面供電技術的 20A（2nm）、18A（1.8nm）工藝。

20A 節點命運多舛。原本英特爾 Arrow Lake 以及高通都計劃采用 20A 工藝，但后續不斷有消息指出，Arrow Lake 已經轉向臺積電 3nm。包括基辛格剛剛也證實，即將推出的兩款處理器均將采用臺積電 3nm 工藝制造。

而根據天風國際分析師郭明錤去年的一份報告，高通也早已停止開發 Intel 20A 芯片。同時還傳出 20A 工藝將僅供英特爾產品部門采用，不會主動面向第三方客戶提供。在英特爾最新的路線圖中，也沒有推出 20A 后續工藝版本的任何計劃，在某種程度也佐證了之前的傳聞。

微軟將基于 Intel 18A 工藝制造芯片。

微軟沒有明說這款芯片的詳情，但就在去年末，微軟剛剛發布了兩款與人工智能息息相關的自研芯片—— Maia 100 AI 芯片和 Cobalt 100 CPU。如果不出意外，就是這兩款芯片將采用英特爾最新的 18A 工藝。

此外，英特爾在最近剛剛完成了 18A 主要產品 Clearwater Forest 的流片，后續還計劃推出性能提升的 18A-P 節點。

而在這版路線圖中，除了一系列迭代版本的增加，最值得關注的部分還是首次公布了 14A（1.4nm）及其迭代版本 14A-E，這將是英特爾真正重回全球晶圓代工技術領導者的關鍵。


2、從 14nm 到 14A，英特爾要反超臺積電

如果從 2015 年推出采用 14nm 工藝的 Skylake 算起，到 2025 年英特爾正式投入 18A 工藝的量產，正好是 10 年。這 10 年中，英特爾有 7 年始終困在從 14nm 到 10nm 的升級，而留給英特爾從 10nm 跨越到 18A（1.8nm）的時間，滿打滿算也只有：3 年。

如果可以如期實現，這將是一場技術和工程的「奇跡」。而屆時，英特爾也將在工藝制程上完成對領先集團（臺積電、三星）的追趕。

按照目前英特爾和臺積電的路線圖，英特爾將在 2025 年實現 18A 工藝的量產，臺積電 2nm 也將在 2025 年正式投入量產。

這里需要指出的是，雖然英特爾的 18A 工藝名義上是 1.8nm 制程，基辛格也多次強調該制程相比臺積電 2nm 工藝的領先，但實際比較晶體管密度，兩者相差無幾，也都采用下一代 GAA（全環繞柵極）架構。

目前來看，英特爾 18A 更直接的優勢還是來自獨有的背面供電技術等，當然臺積電 2nm 也會有一些獨有的技術優勢。但總體而言，英特爾 18A 工藝實際對標就是臺積電、三星的 2nm 工藝。

換言之，英特爾要到下一個工藝節點—— 14A 才可能真正反超臺積電。

按照英特爾的計劃，他們將于 2027 年前開發出 14A 工藝，并且將在該節點首次采用 ASML 的 High-NA EUV（高數值孔徑極紫外）光刻機。事實上，光刻機巨頭 ASML 去年末就在 X（原 Twitter）上宣布首套 High-NA EUV 光刻機正從荷蘭 Veldhoven 總部開始裝車發貨，將向英特爾俄勒岡廠進行交付：

「我們很高興、也很自豪，能夠向英特爾交付我們的第一個 High-NA EUV 系統。」

按照 ASML CEO Peter Wennink 的說法，單臺 High-NA EUV 的價格在 3 億到 3.5 億歐元（約合人民幣 22.6 億元到 26.4 億元）之間，英特爾的首發搶購，也恰恰說明了其對奪回技術領導者地位的迫切和重視。

事實上，英特爾的轉型和進步已經得到了市場的認可。微軟就是其中的一個典型案例。他們決定基于英特爾的18A工藝制造芯片，這無疑是對英特爾技術實力和未來發展潛力的巨大肯定。而這一合作也將進一步推動英特爾在晶圓代工領域的崛起和發展。

英特爾通過晶圓代工模式和最新的芯片工藝進展，正在努力實現追趕并超越競爭對手的目標。他們全新的1.4nm工藝（14A）不僅展示了他們在技術上的領先地位和創新實力，更彰顯了他們在全球晶圓代工市場的雄心壯志和堅定決心。我們有理由相信，在未來的競爭中，英特爾將憑借其卓越的技術和不懈的努力，重新奪回晶圓代工領域的王者之位。