- 美國的目的暴露了，奪下6臺(tái)EUV光刻機(jī)推進(jìn)2納米，反超臺(tái)積電
- 一臺(tái)近30億元！ASML明年生產(chǎn)10臺(tái)全新EUV光刻機(jī)：Intel獨(dú)吞6臺(tái)
- 怎么辦？EUV光刻機(jī)前進(jìn)的3個(gè)方向，已全部是絕路
- CEO退休，ASML的EUV光刻機(jī)，已經(jīng)走向絕路了
- 被一層膜卡住的三星EUV，透射率已達(dá)到90%，這道坎趟過去了？
- 風(fēng)向變了，美國100億美元建H-N EUV研發(fā)中心，再造臺(tái)積電？
- IBM、美光等巨頭聯(lián)手紐約共建100億美元芯片園區(qū)，引進(jìn)EUV光刻機(jī)，推動(dòng)全球芯片產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新
- 投資100億美元，IBM、美光、應(yīng)材、東京電子參與High NA EUV中心建設(shè)
- 三星自研EUV光罩保護(hù)膜透光率已達(dá)90%
- 5納米無需EUV，ASML的光刻機(jī)將成廢鐵，中國市場(chǎng)成救命稻草
